目前能制造高端光刻机的好像只有中国，荷兰（镜头来自德国）和日本。光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机，堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。
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